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博客

EDA在智能制造中的应用与效益:系列专题

类别: 
行业标准
,
主题专家

标签: 
EDA/Interface A
,
SEMI标准
,
主题专家
,
设备连接性

发布于 2017年12月19日 作者:艾伦·韦伯

本博客最初发布于cimetrix.com。

EDA/接口A标准

随着过去18个月内SEMI EDA(设备数据采集,亦称接口A)最新标准的采用速度显著加快,现在正是时候重点介绍业内充分利用这些标准的应用案例,以及由此带来的具体制造效益。

本系列文章不仅是关于如何利用这些标准的性能、灵活性和架构特性来实现特定功能的建议,更是源自实际生产经验的前沿应用案例研究。这些研究聚焦于具体应用场景,能够为那些正考虑启动试点项目,甚至计划在全厂范围部署EDA标准的企业提供切实可行的指导。

本系列的另一重要方面在于,所描述的应用程序影响着半导体制造企业中广泛的利益相关者群体。其中当然包括负责故障检测与分类(FDC)实施策略的工艺控制工程师和统计建模支持人员——在所有现代晶圆厂中,该应用始终是EDA接口所提供的高密度、精确框架化设备/工艺数据及相关上下文信息的初始使用者。

然而,其他直接受益于EDA应用的群体远不止于此,还包括:

  • 工业工程师负责实时监控设备和工厂产能,识别消除各类设备及整个工厂中等待时间浪费的机会,并及时解决不断转移和出现的瓶颈问题;
  • 生产控制人员负责确定物料放行计划,并管理工厂排程/调度系统,以适应客户订单和/或工厂状态的变化;
  • 负责设备匹配与管理的设备工程师,旨在最大限度减少或消除为关键工艺步骤专设特定设备组的需求,从而简化整体工厂排程流程;
  • 维护工程师负责最大限度地减少设备停机时间、平均修复时间(MTTR)以及将设备恢复至生产就绪状态所需的测试晶圆消耗量;
  • 设施工程师负责收集并整合来自泵、冷却机组、排气系统及其他复杂子系统的次级工厂数据,将其纳入生产数据管理基础设施,以供日益扩大的分析应用场景使用;
  • 传感器集成专家负责增强关键工艺和测量设备的内置传感与控制能力,以支持先进工艺开发……

……还有更多。

尽管应用案例各不相同,但它们都具有共同的结构特征:首先阐述所解决的制造难题;其次描述所需的主要解决方案组件;接着探讨该方案如何利用电子设计自动化(EDA)标准的特定独特特性;最后明确该方案影响的关键投资回报率(ROI)因素。 此外,在条件允许的情况下,将提供示例性投资回报率计算,以便读者根据自身企业环境进行调整,从而量化实施类似应用解决方案的潜在效益。

从上述描述中,您或许会误以为本系列主要关注半导体制造企业(IDM和代工厂)的关切事项……但事实并非如此。由于重点应用的性能高度依赖于提供数据的设备接口的"质量"(暂无更恰当的表述),设备供应商在实现预期效益方面扮演着关键角色。 具体而言,由SEMI E120、E125和E164标准定义的元数据模型——这些模型不仅界定了设备可提供的参数、状态、事件、异常等数据,更构建了外部访问信息的框架——实质上构成了设备供应商与工厂客户之间的数据采集"契约"。 因此,在实施EDA时必须对该方面的详细要求进行谨慎制定和协商。鉴于其对未来设备设计的影响深远,这一过程不可能一蹴而就。

正如众多行业专家所言,无论身处价值链的哪个环节,此刻身处半导体行业都令人振奋。对于那些通过收集和利用设备数据来优化工厂性能的人士,我们希望即将推出的系列文章能为贵公司制定EDA实施路线图提供特别有价值的参考。

 

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