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レイアウトパターンの系統的な欠陥に対処して歩留まりを向上させるプレゼンテーション資料のダウンロード
シーメンスが先進的なAIとレイアウト解析を活用し、半導体設計における系統的な欠陥に対処する方法を学びましょう。本プレゼンテーションでは、レイアウトパターン系統性の特定、成功したシリコン結果、そしてこれらの革新が故障解析の時間とコストを削減し、先進技術ノードにおける歩留まりと効率を向上させる仕組みを探ります。
今すぐダウンロードして、半導体製造における生産性と品質向上を推進する最先端技術に関する知見を得ましょう。
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