摘要：光刻工艺优化（OPC）和掩模相关的成本与复杂度正急速攀升，或将限制未来工艺制程的缩放能力。本文重点阐述规则设计结构在OPC简化中的优势，旨在推动当前量产技术的工艺缩放并最大限度降低成本。 采用此类简化OPC流程可显著减少光罩数据量——相较传统设计与OPC流程，其边缘数量大幅降低。此外，该方案还能缩短光罩刻写时间，从而降低光罩成本。
我们对比了标准单元设计中OPC性能与复杂度，以及常规设计结构中布局的性能与复杂度。首先，我们展示了基于工业模型的OPC解决方案的优势与局限性。随后，针对金属1层讨论了简化的基于规则的OPC解决方案。 该简化OPC方案在保持常规设计布线可制造性优势的同时，实现了运行时间70倍的提升，单位形状的输出边缘数与单位形状的测试次数均缩减了一个数量级。同时，简化OPC方案还使掩模刻写时间缩短50%。最后，我们探讨了常规设计布线在32纳米节点上对OPC简化和掩模成本降低的优势。
关键词：DFM，常规设计，OPC，良率