這篇部落格文章最初發表於 cimetrix.com
Cimetrix CIMControlFramework™ (CCF) 是一套軟體開發套件 (SDK)，可讓使用者利用其中提供的元件，針對監控、物料搬運、操作員介面、平台與製程控制，以及自動化需求，設計並實作高品質的設備控制解決方案。CCF 建基於可靠的 Cimetrix 連線產品，這些產品提供 GEM/GEM300/EDA 介面功能。
雖然 CCF 確實提供了一個內建介面來處理 GEM300 訊息，但 CCF 同樣能有效用於建置後端及電子設備控制應用程式，用以處理晶片與托盤的移動，而非晶圓與載具。
為了展示這項功能，Cimetrix 已將一個連續流後端範例納入 CCF 所提供的完整運作實作範例之中。若您已熟悉 CCF，應該已經看過前端的「大氣」與「真空」叢集工具範例。
如以下所述，連續流樣本與上述其他樣本有所不同。
JEDEC 輸入與輸出托盤
針對大氣與真空樣本，材料以 SEMI E87 載具盛裝的晶圓形式交付。至於後端製程與電子市場，材料通常並非晶圓形式，且不以載具盛裝交付。至於連續流樣本，材料透過輸入托盤送入系統，並透過輸出托盤從系統中取出。 本測試中使用的所有托盤均類似於 JEDEC 托盤，即用於運輸、處理及儲存晶片及其他元件的標準化托盤。這些托盤設有槽位，可將材料以行和列的形式排列。JEDEC 托盤的外觀如下所示：
「連續流量」範例允許使用者透過配置參數指定托盤中的行數與列數。此範例包含兩個輸入托盤和兩個輸出托盤。
連續流
正如「連續流動」範例的名稱所示，材料會持續進行處理，直到材料用盡或使用者下達停止指令為止。此範例並未使用 SEMI E40 製程任務或 SEMI E94 控制任務來決定材料的處理方式。相反地，使用者只需選擇要在處理過程中使用的配方，並按下「開始」按鈕。材料將持續進行處理，直到按下「停止」按鈕為止。
預設情況下，「連續流程」範例會先處理第一個輸入托盤中的所有物料，接著再處理第二個輸入托盤中的所有物料。當某個輸入托盤清空時，該空托盤將被移除，並替換為一個滿的托盤。同樣地，當某個輸出托盤裝滿時，該托盤會自動被移除，並替換為一個空的托盤。如此一來，處理流程便能持續運行，直到被停止為止。
排程器
連續流樣品排程器與大氣及真空樣品中的排程器不同之處在於，它無需依賴製程工作或序列配方來決定如何將物料輸送通過系統。它僅會挑選下一個輸入物料，並將其放置於第一個可用的製程槽位中；接著挑選下一個已完成的物料，並將其放置於第一個可用的輸出槽位中。
可視化
針對「連續流」範例建立了一個新的視覺化效果。與其使用圓形物料、SEMI E87 載具、裝載埠及晶圓處理機器人，新的視覺化效果改為繪製矩形物料，其外觀類似可能裝載於 JEDEC 托盤中的晶片。此外，該視覺化效果並未嘗試渲染機器人，而是渲染了一個圓形末端執行器，用以將物料在系統中移動。以下螢幕截圖顯示了該範例視覺化效果在處理過程中的樣貌。
在 CCF 的下個版本中，此視覺化工具的元件將被納入一個視覺化函式庫，使用者可藉此比以往在 CCF 中更輕鬆地自訂其視覺化效果。
遠端指令
「連續流量」範例附帶三項已完全實作的遠端指令，可讓主機或主機模擬器執行此範例。這些指令如下：
- PP_SELECT – 指定用於處理材料的製程配方。
- START – 根據所選配方開始進行材料處理。
- 停止 – 請勿送入待處理的新物料，並在所有已處理的物料送至輸出托盤後停止作業。
以下顯示由 Cimetrix EquipmentTest 傳送的、用於選取配方之 S2F49 遠端指令主體。
結論
我們希望 CCF 中新增的「連續流量」範例，能為正在開發半導體後端或電子設備控制解決方案的開發者，提供一個絕佳的起點，助其打造專屬應用程式！